하흥용 홍성안 남석우 2024-01-21T23:13:35Z 2024-01-21T23:13:35Z 2022-01-10 1992-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146504 Synthesis of H//2-permselective silica films by chemical vapor deposition. 화학증착 (CVD) 에 의한 선택적 수소 투과성 실리카막의 제조 = Article 3 멤브레인 = Membrane journal, v.v. 2, no.no. 1, pp.21 - 32 멤브레인 = Membrane journal v. 2 no. 1 21 32 H//2 selectivity silica membrane chemical vapor deposition