염상섭 윤영수 최상삼 D. H. Lee 2024-01-21T23:31:07Z 2024-01-21T23:31:07Z 2022-01-10 1992-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146575 Metalorganic chemical vapor deposition of BaTiO//3 thin films on Si. 유기금속 화학기상증착법에 의한 Si 기판위의 BaTiO//3 박막증착 = Article 3 응용물리 = Korean appl. phys., v.v. 5, pp.193 - 197 응용물리 = Korean appl. phys. v. 5 193 197 thin films BaTiO//3 MOCVD