강광남 이정일 이명복 한일기 이유종 2024-01-21T23:34:27Z 2024-01-21T23:34:27Z 2022-01-10 1992-01 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/146631 PECVD 방법에 의해 제작된 SiNx/InP MIS 구조의 bias stress 에 의한 C-V 및 G-V 곡선의 변화 . Article 3 새물리, v.v. 32, no.no. 2, pp.252 - ? 새물리 v. 32 no. 2 252 ? MIS 구조