강광남 이정일 이명복 주병권 김형곤 오명환 2024-01-22T00:11:55Z 2024-01-22T00:11:55Z 2022-01-10 1990-11 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/147028 A study on silicon/silicon dioxide interface by C-V techniques. C-V 방법에 의한 Si/SiO//2 계면상태 연구 = Article 3 응용물리, v.v. 3, no.no. 4, pp.536 - 541 응용물리 v. 3 no. 4 536 541 silicon silicon dioxide interface