주병권 이윤희 김형곤 오명환 2024-01-22T00:41:45Z 2024-01-22T00:41:45Z 2022-01-10 1989-11 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/147298 Establishment of optimal {100} Si etching condition for N2H4-H2O solutions and application to electrochemical etching N2H4-H2O 용액의 {100} Si에 대한 최적식각조건의 설정과 전기화학적 식각에의 응용 Article 3 전자공학회 논문지, v.26, no.11, pp.56 - 60 전자공학회 논문지 26 11 56 60