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<dcvalue element="contributor" qualifier="author">왕다솜</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Jaeyeong&#x20;Bae</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">최형진</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">백승협</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">우승완</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">박동희</dcvalue>
<dcvalue element="contributor" qualifier="author">Choi,&#x20;Won&#x20;Jun</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="accessioned">2024-01-12T02:31:49Z</dcvalue>
<dcvalue element="date" qualifier="available">2024-01-12T02:31:49Z</dcvalue>
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<dcvalue element="description" qualifier="abstract">This&#x20;work&#x20;reports&#x20;on&#x20;the&#x20;modification&#x20;of&#x20;electrical&#x20;properties&#x20;of&#x20;amorphous&#x20;vanadium&#x20;oxide&#x20;(a-VOx)&#x20;thin&#x20;film&#x20;thermistor&#x20;by&#x20;growth&#x20;temperature&#x20;and&#x20;its&#x20;effects&#x20;on&#x20;the&#x20;performances&#x20;of&#x20;a&#x20;cooler-free&#x20;microbolometer.&#x20;The&#x20;a-VOx&#x20;thin&#x20;films&#x20;have&#x20;been&#x20;deposited&#x20;by&#x20;pulsed&#x20;DC&#x20;sputtering&#x20;processes&#x20;under&#x20;various&#x20;growth&#x20;temperatures&#x20;from&#x20;160&#x20;to&#x20;230&#x20;degrees&#x20;c.&#x20;The&#x20;sheet&#x20;resistance&#x20;of&#x20;the&#x20;samples&#x20;at&#x20;room&#x20;temperature&#x20;decreases&#x20;from&#x20;330&#x20;to&#x20;70&#x20;k&#x20;Omega&#x2F;square&#x20;with&#x20;increasing&#x20;growth&#x20;temperature.&#x20;This&#x20;is&#x20;due&#x20;to&#x20;the&#x20;increase&#x20;of&#x20;oxygen&#x20;vacancies&#x20;at&#x20;higher&#x20;growth&#x20;temperature,&#x20;which&#x20;have&#x20;been&#x20;confirmed&#x20;by&#x20;XPS&#x20;analysis.&#x20;Temperature&#x20;dependence&#x20;of&#x20;resistance&#x20;of&#x20;a-VOx&#x20;films&#x20;shows&#x20;non-hysteresis&#x20;behaviors&#x20;up&#x20;to&#x20;120&#x20;degrees&#x20;c,&#x20;which&#x20;in&#x20;turn&#x20;shows&#x20;clear&#x20;activation&#x20;energies.&#x20;The&#x20;activation&#x20;energy&#x20;of&#x20;a-VOx&#x20;films&#x20;also&#x20;decreases&#x20;from&#x20;0.190&#x20;to&#x20;0.145&#x20;eV&#x20;with&#x20;increasing&#x20;growth&#x20;temperature,&#x20;which&#x20;confirms&#x20;the&#x20;decrease&#x20;of&#x20;temperature&#x20;coefficient&#x20;of&#x20;resistance&#x20;(TCR)&#x20;from&#x20;2.80&#x20;to&#x20;2.44&#x20;(-%&#x2F;K)&#x20;at&#x20;25&#x20;degrees&#x20;c&#x20;and&#x20;from&#x20;1.48&#x20;to&#x20;1.14&#x20;(-%&#x2F;K)&#x20;even&#x20;at&#x20;120&#x20;degrees&#x20;c.&#x20;The&#x20;responsivities&#x20;of&#x20;fabricated&#x20;microbolometers&#x20;based&#x20;on&#x20;the&#x20;a-VOx&#x20;thin&#x20;film&#x20;thermistors&#x20;have&#x20;been&#x20;measured&#x20;from&#x20;3.04&#x20;x&#x20;10(3)&#x20;to&#x20;1.14&#x20;x&#x20;10(3)&#x20;VA&#x2F;k&#x2F;&#x20;at&#x20;room&#x20;temperature&#x20;and&#x20;from&#x20;9.54&#x20;x&#x20;10(2)&#x20;to&#x20;3.02&#x20;x&#x20;10(2)&#x20;VFW&#x20;even&#x20;at&#x20;120&#x20;degrees&#x20;C&#x20;with&#x20;increasing&#x20;growth&#x20;temperature.&#x20;(C)&#x20;2022&#x20;Published&#x20;by&#x20;Elsevier&#x20;B.V.</dcvalue>
<dcvalue element="language" qualifier="none">English</dcvalue>
<dcvalue element="publisher" qualifier="none">Elsevier&#x20;BV</dcvalue>
<dcvalue element="title" qualifier="none">Modification&#x20;of&#x20;electrical&#x20;properties&#x20;of&#x20;amorphous&#x20;vanadium&#x20;oxide&#x20;(a-VOx)&#x20;thin&#x20;film&#x20;thermistor&#x20;for&#x20;microbolometer</dcvalue>
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<dcvalue element="identifier" qualifier="doi">10.1016&#x2F;j.jallcom.2022.168295</dcvalue>
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<dcvalue element="identifier" qualifier="bibliographicCitation">Journal&#x20;of&#x20;Alloys&#x20;and&#x20;Compounds,&#x20;v.937</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="title">Journal&#x20;of&#x20;Alloys&#x20;and&#x20;Compounds</dcvalue>
<dcvalue element="citation" qualifier="volume">937</dcvalue>
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