Sang-Heon Kim Jung, Sung Mok Kim, Young-Hwan 2024-01-12T22:35:05Z 2024-01-12T22:35:05Z 2021-09-29 https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/98396 English 실리콘 나노선 ICP-RIE 수직 식각 Effect of reactive gas of fluorides on Si etching by using ICP-RIE ICP-RIE를 이용한 실리콘 식각에 미치는 플루오르계 반응 가스의 영향 Conference 2 한국진공학회 제34회 정기학술대회, pp.246 한국진공학회 제34회 정기학술대회 246 246 KO