DSpace at KIST: 스크린 인쇄법에 의해 제조한 PMW-PZT 후막의 특성

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DSpace at KISTKIST Article 2004

스크린 인쇄법에 의해 제조한 PMW-PZT 후막의 특성

Other Titles: Characterization of PMW-PZT Thick Films Prepared by Screen Printing Method

Authors: 손진호; 천채일; 유광수; 김태송; 김용범

Issue Date: 2004-01

Publisher: 한국세라믹학회

Citation: 한국세라믹학회지, v.41, no.1, pp.6 - 6

Abstract: 스크린 인쇄법 및 PZT sol 처리의 복합공정을 적용하여 30㎛ 두께의 PMW-PZT 후막을 Pt/TiO2/SiNx/Si 기판위에 제작하였다. 그 결과 PZT sol 처리 횟수가 증가함에 따라 후막의 소결 밀도가 증가하고 전기적, 압전 특성의 증진되는 것을 관찰할 수 있었다. 800oC에서 소결한 10회 sol 처리한 PMW-PZT 후막은 745의 유전상수 및 155 pC/N의 d33 값을 나타내었다.

Keywords: PMW-PZT; Piezoelectric; Thick film; Screen printing; PZT sol application; PMW-PZT; Piezoelectric; Thick film; Screen printing; PZT sol application

ISSN: 1229-7801

URI: https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/137958

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