저온공정용 유전체 박막 및 그 제조방법

Abstract

본 발명은 유전체 박막 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 하기 일반식의 조성을 가지는 유전체 박막 및 그 제조방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 하기 일반식으로 표시되는 특정의 조성을 포함하여 우수한 유전 특성을 갖는다. 특히, 350℃ 이하의 낮은 온도(상온 내지 350℃)에서 형성(증착)되었음에도 불구하고, 비유전율은 매우 높으면서, 유전손실과 누설전류가 매우 낮은 특성을 갖는다. [일반식]TaxMg1-xO위 일반식에서, x는 0.082 ≤ x ≤ 0.89이다.