디플루오로메탄과 1,1,1-트리플루오로에탄과1,1,1,2-테트라플루오로에탄을 함유하는 냉매 조성물

Title
디플루오로메탄과 1,1,1-트리플루오로에탄과1,1,1,2-테트라플루오로에탄을 함유하는 냉매 조성물
Authors
김창년박건유이병권임종성
Issue Date
2001-01-31
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 지구의 오존층을 파괴하는 것으로 알려진 클로로디플루오로메탄 (CHClF2, 이하 HCFC-22)을 대체하기 위한 냉매 조성물에 관한 것으로, 지구의 오존층을 파괴하는 물질이 함유되지 않은 대체냉매를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 냉매 조성물은 디플루오로메탄(CH2F2, 이하 HFC-32)과; 1,1,1-트리플루오로에탄(CH3CF3, 이하 HFC-143a)과; 1,1,1,2-테트라플루오로에탄(CH2FCF3, 이하 HFC-134a)과; 1,1-디플루오로에탄(CH3CHF2, 이하 HFC-152a), 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판(CF3CHFCF3, 이하 HFC-227ea), 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판(CHF2CHFCF3, 이하 HFC-236ea) 및 부탄(C4H10, 이하 R-600)으로 이루어지는 군에서 선택되는 하나의 화합물로 이루어진다. 오존층 파괴, HCFC-22, 대체 냉매, 디플루오로메탄, HFC-32, 1,1,1-트리플루오로에탄, HFC-143a, 1,1,1,2-테트라플루오로에탄, HFC-134a, 1,1-디플루오로에탄, HFC-152a, 1,1,1,2,3,3,3-헵타플루오로프로판, HFC-227ea, 1,1,1,2,3,3-헥사플루오로프로판, HFC-236ea, 부탄, R-600
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KIST Patent > 2001
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