보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법

Title
보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
Authors
강종희김종만안광덕한동근
Issue Date
1999-10-26
Publisher
한국과학기술연구원
Abstract
본 발명은 미세 형광 화상 형성 재료인 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체와, 이를 이용한 미세 형광 화상 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체는 히드록시기의 분자내 수소결합을 한시적으로 차단한 다음 산, 열 또는 광 등에 의해 탈보호되어 색 및 형광의 변화를 일으키고, 일반적인 고분자와 혼합시 코팅이 용이하기 때문에, 화학증폭성 미세 화상 형성 공정 조건에서 쉽게 미크론미터 단위의 미세 형광 화상을 형성할 수 있어서, 기록용 재료 및 센서 재료로 응용될 수 있다. 히드록시 보호된 안트라퀴논 및 나프타센퀴논 유도체, 분자내 수소 결합 차단, 미세 증폭성 미세 형광 화상 형성
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KIST Patent > ETC
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