플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리방법

Abstract

플라즈마 표면처리 장치 및 이를 이용한 플라즈마 표면처리방법에서, 상기 플라즈마 표면처리 장치는 플라즈마 발생유닛 및 저압 형성유닛을 포함한다. 상기 플라즈마 발생유닛은 피 처리물의 표면에 부착되며 플라즈마 방전이 발생하는 방전공간을 형성하는 헤드부, 및 상기 방전공간으로 방전을 유도하는 방전부를 포함한다. 상기 저압 형성유닛은 상기 방전공간과 개방됨에 따라 상기 방전공간의 압력을 대기압보다 낮은 저압으로 형성한다.