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폴리이미드계 고분자 화합물 및 폴리설폰계 고분자 화합물에 기반한 다중층 중공사막 및 그의 제조방법

Author

백경열; 안희성; 이종석; 조계용; 나종범; 장종산; 홍순만; 황승상; 구종민; 박용기

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2019-07-23

Registration No.

10-2004904

Application Date

2017-07-28

Application No.

2017-0096245

Country

KO

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/85865

Appears in Collections:

KIST Patent > 2017

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