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dc.contributor.author김광웅-
dc.contributor.author조남기-
dc.contributor.author송진동-
dc.contributor.author이정일-
dc.contributor.author박정호-
dc.contributor.author이유종-
dc.contributor.author최원준-
dc.date.accessioned2024-01-20T21:04:14Z-
dc.date.available2024-01-20T21:04:14Z-
dc.date.created2021-09-06-
dc.date.issued2009-07-
dc.identifier.urihttps://pubs.kist.re.kr/handle/201004/132342-
dc.description.abstractMigration Enhanced Molecular Beam Epitaxy를 통해 성장한 GaAs 기반 1300 nm 파장대역 InAs 양자점 레이저 다이오드의 발진 특성을 연구하였다. 펄스 및 상온 연속 동작에서 전류 주입 및 동작 온도 변화에 따른 L-I 특성과 발진 스펙트럼 측정을 통해 바닥준위(1302 nm)에서 여기준위(1206 nm)로의 발진 파장의 전환을 관찰하였으며 이는 양자점 바닥준위 이득의 포화로 이해된다. 상온 펄스 동작시 문턱전류 밀도는 92 A/cm2, 발진 파장은 1311 nm이며, 상온 연속 동작시 문턱전류 밀도는 247 A/cm2, 발진 파장은 1320 nm이다.-
dc.languageKorean-
dc.publisher한국진공학회-
dc.titleGaAs 기반 1300 nm 파장대역 InAs 양자점 레이저 다이오드의 발진 특성-
dc.title.alternativeLasing Characteristics of GaAs-Based 1300 nm Wavelength Region InAs Quantum Dot Laser Diode-
dc.typeArticle-
dc.description.journalClass3-
dc.identifier.bibliographicCitationApplied Science and Convergence Technology, v.18, no.4, pp.266 - 271-
dc.citation.titleApplied Science and Convergence Technology-
dc.citation.volume18-
dc.citation.number4-
dc.citation.startPage266-
dc.citation.endPage271-
dc.identifier.kciidART001365044-
dc.subject.keywordAuthorGaAs-
dc.subject.keywordAuthorIn(Ga)As-
dc.subject.keywordAuthor양자점 레이저 다이오드-
dc.subject.keywordAuthor분자선 에피택시-
dc.subject.keywordAuthorMigration enhanced epitaxy-
dc.subject.keywordAuthorGaAs-
dc.subject.keywordAuthorIn(Ga)As-
dc.subject.keywordAuthorQuantum dot laser diode-
dc.subject.keywordAuthorMolecular beam epitaxy-
dc.subject.keywordAuthorMigration enhanced epitaxy-
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KIST Article > 2009
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