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dc.contributor.author손진호-
dc.contributor.author천채일-
dc.contributor.author유광수-
dc.contributor.author김태송-
dc.contributor.author김용범-
dc.date.accessioned2024-01-21T07:41:08Z-
dc.date.available2024-01-21T07:41:08Z-
dc.date.created2022-01-10-
dc.date.issued2004-01-
dc.identifier.issn1229-7801-
dc.identifier.urihttps://pubs.kist.re.kr/handle/201004/137958-
dc.description.abstract스크린 인쇄법 및 PZT sol 처리의 복합공정을 적용하여 30㎛ 두께의 PMW-PZT 후막을 Pt/TiO2/SiNx/Si 기판위에 제작하였다. 그 결과 PZT sol 처리 횟수가 증가함에 따라 후막의 소결 밀도가 증가하고 전기적, 압전 특성의 증진되는 것을 관찰할 수 있었다. 800oC에서 소결한 10회 sol 처리한 PMW-PZT 후막은 745의 유전상수 및 155 pC/N의 d33 값을 나타내었다.-
dc.publisher한국세라믹학회-
dc.title스크린 인쇄법에 의해 제조한 PMW-PZT 후막의 특성-
dc.title.alternativeCharacterization of PMW-PZT Thick Films Prepared by Screen Printing Method-
dc.typeArticle-
dc.description.journalClass2-
dc.identifier.bibliographicCitation한국세라믹학회지, v.41, no.1, pp.6 - 6-
dc.citation.title한국세라믹학회지-
dc.citation.volume41-
dc.citation.number1-
dc.citation.startPage6-
dc.citation.endPage6-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.identifier.kciidART001096118-
dc.subject.keywordAuthorPMW-PZT-
dc.subject.keywordAuthorPiezoelectric-
dc.subject.keywordAuthorThick film-
dc.subject.keywordAuthorScreen printing-
dc.subject.keywordAuthorPZT sol application-
dc.subject.keywordAuthorPMW-PZT-
dc.subject.keywordAuthorPiezoelectric-
dc.subject.keywordAuthorThick film-
dc.subject.keywordAuthorScreen printing-
dc.subject.keywordAuthorPZT sol application-
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KIST Article > 2004
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