Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 최원국 | - |
dc.contributor.author | 윤덕주 | - |
dc.contributor.author | 송재훈 | - |
dc.contributor.author | 오희범 | - |
dc.contributor.author | 정형진 | - |
dc.date.accessioned | 2024-01-12T08:06:45Z | - |
dc.date.available | 2024-01-12T08:06:45Z | - |
dc.date.issued | 2004-08-10 | - |
dc.identifier.uri | https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/81699 | - |
dc.title | 가스 클러스터 이온빔을 이용한 아이.티.오 박막 표면처리 시스템 및 그 방법 | - |
dc.type | Patent | - |
dc.date.registration | 2004-08-10 | - |
dc.date.application | 2001-10-25 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 0445105 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 2001-0066053 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
dc.type.iprs | 특허 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술연구원 | - |
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