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Issue Date | Title | Author(s) |
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- | t-BOC protected alicyclic polymers for applications as high resolution ArF photoresists | KANG JONG HEE; 신중한; 이재형; KIM JONG MAN; Han Dong Keun; Ahn Kwang-Duk |
- | Transition-metal-catalyzed vinyl addition polymerization of norbornene derivatives with ester groups | 이재형; 이근주; CHO I WHAN; Han Dong Keun; Ahn Kwang-Duk |
1999-12-24 | 초고집적 반도체의 고해상도 레지스트재료용 지환족 유도체 및 그의 제조방법 | 안광덕; 한동근; 이재형; 강종희; 이찬우; 김종만 |
1999-11-01 | 포토레지스트용 공중합체 및 그 제조방법 | 안광덕; 한동근; 김종만; 구재선; 문성윤; 이상균; 이재형 |