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Issue DateTitleAuthor(s)
1998-01New alicyclic polymers based on protected dinorbornene monomers for application as deep UV resistsAhn, K.-D.; Rang, J.-H.; Lee, C.-W.; Kim, J.-M.; Han, D.-K.; Lee, J.-H.; Cho, I.; Moon, S.-Y.; Koo, J.-S.; Lee, S.-K.
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