DSpace at KIST: The growth and characteristics of wet thermal oxidation film for SOI fabrication

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	김형권	-
dc.contributor.author	Byun Young Tae	-
dc.contributor.author	Kim Sun Ho	-
dc.contributor.author	한상국	-
dc.contributor.author	옥성해	-
dc.date.accessioned	2024-01-13T12:00:51Z	-
dc.date.available	2024-01-13T12:00:51Z	-
dc.date.created	2021-09-29	-
dc.identifier.uri	https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/106477	-
dc.language	English	-
dc.subject	SOI	-
dc.subject	열산화막 성장	-
dc.subject	습식 열산화로	-
dc.subject	식각 마스크	-
dc.subject	포토리소그라피	-
dc.title	The growth and characteristics of wet thermal oxidation film for SOI fabrication	-
dc.title.alternative	SOI 제작을 위한 습식 열산산화막 성장 및 특성	-
dc.type	Conference	-
dc.description.journalClass	2	-
dc.identifier.bibliographicCitation	한국광학회 제 14 회 정기총회 및 2003 년도 동계학술발표회, pp.172 - 173	-
dc.citation.title	한국광학회 제 14 회 정기총회 및 2003 년도 동계학술발표회	-
dc.citation.startPage	172	-
dc.citation.endPage	173	-
dc.citation.conferencePlace	KO	-

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