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dc.contributor.author서호영-
dc.contributor.author허미나-
dc.contributor.author홍기민-
dc.date.accessioned2024-01-19T12:02:00Z-
dc.date.available2024-01-19T12:02:00Z-
dc.date.created2022-06-30-
dc.date.issued2022-05-
dc.identifier.issn0374-4914-
dc.identifier.urihttps://pubs.kist.re.kr/handle/201004/115182-
dc.description.abstract구리도금용 전해액에 유기첨가제인 Ralufon#14을 가하여 평판 구리 박막을 제작하고 구리 박막의 결정구조, 입도, 비저항, 표면거칠기 및 반사계수를 분석하였다. 전해액만으로 도금한 구리 박막에 비해 Ralufon#14을 첨가하면 구리의 결정성과 표면거칠기가 변화하며 비저항이 크게 감소한다. 또한 순수 전해액으로만 제작한 구리 박막과 비교하였을 때 Ralufon#14를 첨가하여 제작한 구리 박막의 반사계수는 크게 증가한다. Ralufon#14의 첨가 여부는 도금 구리 박막의 물성에는 큰 변화를 야기하지만 그 변화는 Ralufon#14의 농도에는 의존하지 않는다.-
dc.languageKorean-
dc.publisher한국물리학회-
dc.title도금용 억제제가 도금 구리 박막의 반사율에 미치는 영향-
dc.title.alternativeEffect of a Suppressing Additive on the Optical Reflectance of Electroplated Copper Surface-
dc.typeArticle-
dc.identifier.doi10.3938/NPSM.72.342-
dc.description.journalClass1-
dc.identifier.bibliographicCitationNew Physics: Sae Mulli, v.72, no.5, pp.342 - 347-
dc.citation.titleNew Physics: Sae Mulli-
dc.citation.volume72-
dc.citation.number5-
dc.citation.startPage342-
dc.citation.endPage347-
dc.description.isOpenAccessN-
dc.description.journalRegisteredClassscopus-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.identifier.kciidART002843590-
dc.identifier.scopusid2-s2.0-85131233555-
dc.subject.keywordAuthor구리-
dc.subject.keywordAuthor전기도금-
dc.subject.keywordAuthor유기첨가제-
dc.subject.keywordAuthor비저항-
dc.subject.keywordAuthor결정립-
dc.subject.keywordAuthor반사계수-
dc.subject.keywordAuthorCopper-
dc.subject.keywordAuthorElectroplating-
dc.subject.keywordAuthorOrganic additive-
dc.subject.keywordAuthorElectrical resistivity-
dc.subject.keywordAuthorCrystallinity-
dc.subject.keywordAuthorOptical re?ectance-
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KIST Article > 2022
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