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dc.contributor.author김경남-
dc.contributor.author김병호-
dc.contributor.author제해준-
dc.date.accessioned2024-01-21T09:15:52Z-
dc.date.available2024-01-21T09:15:52Z-
dc.date.created2022-01-10-
dc.date.issued2003-02-
dc.identifier.issn1598-5385-
dc.identifier.urihttps://pubs.kist.re.kr/handle/201004/138852-
dc.description.abstract열처리 온도에 따라 접합유리와의 화학적 반응이 Fe-Hf-N/SiO2 및 Fe-Hf-N/Cr/SiO2 박막의 물리적, 자기적 특성에 미치는 영향을 고찰하였다. 접합유리와 반응된 Fe-Hf-N/SiO2 박막의 연자기 특성은 온도가 증가함에 따라 크게 떨어졌으며, 600 oC에서 포화자화값은 1 kG, 보자력이 27 Oe, 10 MHz에서의 유효투자율이 70으로 자기적 특성이 급격히 열화되었다. 이는 접합유리와의 화학적 반응에 의해 Fe-Hf-N 박막이 HfO2, Fe3O4 등으로 산화되기 때문인 것으로 나타났다. Fe-Hf-N/Cr/SiO2 박막의 경우, 600 oC에서 포화자화값 13.5 kG, 보자력은 4 Oe, 10 MHz에서의 유효 투자율이 700으로 Fe-Hf-N/SiO2 박막보다 연자기 특성 열화가 덜 일어났다. 이는 Fe-Hf-N/Cr/SiO2 박막의 Cr 층이 Fe-Hf-N 박막의 산화를 억제하여, 일부에서만 HfO2 가 생성되고 나머지는 원래의 a-Fe 상을 유지하기 때문인 것으로 나타났다.-
dc.languageKorean-
dc.publisher한국자기학회-
dc.title접합유리와 반응된 Fe-Hf-N 박막의 연자기 특성-
dc.title.alternativeSoft Magnetic Properties of Fe-Hf-N Films Reacted with Bonding Glass-
dc.typeArticle-
dc.description.journalClass2-
dc.identifier.bibliographicCitation한국자기학회지, v.13, no.1, pp.6 - 15-
dc.citation.title한국자기학회지-
dc.citation.volume13-
dc.citation.number1-
dc.citation.startPage6-
dc.citation.endPage15-
dc.description.isOpenAccessN-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.identifier.kciidART000998310-
dc.subject.keywordAuthorFe-Hf-N 박막-
dc.subject.keywordAuthorFe-Hf-N film-
dc.subject.keywordAuthorbonding glass-
dc.subject.keywordAuthorchemical reaction-
dc.subject.keywordAuthorCr layer-
Appears in Collections:
KIST Article > 2003
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