Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 조재원 | - |
dc.contributor.author | 이희택 | - |
dc.contributor.author | 최원준 | - |
dc.contributor.author | 우덕하 | - |
dc.contributor.author | 김선호 | - |
dc.contributor.author | 강광남 | - |
dc.date.accessioned | 2024-01-21T09:39:43Z | - |
dc.date.available | 2024-01-21T09:39:43Z | - |
dc.date.created | 2021-09-06 | - |
dc.date.issued | 2002-12 | - |
dc.identifier.uri | https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/139015 | - |
dc.description.abstract | 반도체-유전체 덮개층의 다양한 조합이 In0.53Ga0.47As/InGaAsP(Q1.25) 양자우물 무질서화에 미치는 영향을 PL (Photoluminescence)을 이용하여 조사하였다. 청색 편이에 대한 문턱 온도는 약 750℃ 였으며 전반적으로 온도가 올라감에 따라 청색 편이도 점차 증가하였으나 SiO2의 경우에는 온도가 올라감에 따라 포화되는 경향을 보였다. SiNx가 SiO2보다 더 큰 청색 편이를 야기하였는데 이것은 SiNx의 낮은 성장 온도와 관계가 있는 것으로 생각된다. SiNx의 경우 P의 확산이, 그리고 SiO2의 경우 Ga의 확산이 청색 편이에 중요한 역할을 하는 것으로 여겨진다. | - |
dc.publisher | 한국진공학회 | - |
dc.title | 다양한 반도체-유전체 덮개층 조합을 이용한 InGaAs/InGaAsP 양자우물의 무질서화 | - |
dc.title.alternative | Dielectric cap quantum well disordering for band gap tuning of InGaAs/InGaAsP quantum well structure using various combinations of semiconductor-dielectric capping layers | - |
dc.type | Article | - |
dc.description.journalClass | 3 | - |
dc.identifier.bibliographicCitation | Applied Science and Convergence Technology, v.11, no.4, pp.207 - 211 | - |
dc.citation.title | Applied Science and Convergence Technology | - |
dc.citation.volume | 11 | - |
dc.citation.number | 4 | - |
dc.citation.startPage | 207 | - |
dc.citation.endPage | 211 | - |
dc.identifier.kciid | ART000896209 | - |
dc.subject.keywordAuthor | 양자우물 무질서화 | - |
dc.subject.keywordAuthor | InGaAs/InGaAsP 양자우물 | - |
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