전자 재료용 일액형 에폭시 접착제를 위한 저온 속경화 잠재성 양이온 경화제
- Authors
- An, So Hyun; Jang, Han Gyeol; Joung, Young Hoon; Kim, Seung Jun; Kim, Myung Woong; Kim, Felix Sunjoo; Kim, Jaewoo
- Issue Date
- 2024-11
- Publisher
- 한국복합재료학회
- Citation
- Composites Research, v.37, no.5, pp.393 - 401
- Abstract
- 에폭시는 내열성과 내화학성 등의 우수한 특성으로 전자 재료 등 다양한 산업 분야에서 필수적으로 사용되는 열경화성 고분자이다. 에폭시의 성능은 사용된 경화제의 종류에 크게 의존하며, 그 중에서도 sulfonium 기반잠재성 경화제는 빠른 경화 속도와 높은 경화도, 특정 온도에서만 반응하는 특성으로 인해 일액형 에폭시의 특성이 요구되는 전자 재료 분야의 이방성 전도 필름 제조에 주목받고 있다. 그러나 Sulfonium 기반 잠재성 경화제는낮은 수율 및 순도 문제로 산업 분야에서 실제 상용화에 어려움이 있다. 본 연구에서는 benzyl 및 naphthyl 유형의sulfonium 경화제(B-Sul+SbF6-, N-Sul+NCyF , N-Sul+NFSI)의 합성 반응 조건이 최적화되었다. 반응 시간, 온도 및 반응물의 비율을 조절하여 수율을 극대화하였고, 이 과정에서 반응 시간 및 온도를 획기적으로 낮추었다. 수율 및순도가 최적화된 세 가지 경화제는 열적 및 기계적 특성을 평가하여 경화 거동 및 보관 안정성을 검토하였다. 그결과, 혼합 후에도 안정적인 경화 성능을 유지함을 확인하였다. 본 연구를 통해 sulfonium 경화제의 산업적 활용가능성이 확장되기를 기대한다
- ISSN
- 2288-2103
- URI
- https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/151010
- DOI
- 10.7234/composres.2024.37.5.393
- Appears in Collections:
- KIST Article > 2024
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