Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 옥명렬 | - |
dc.contributor.author | 박지민 | - |
dc.contributor.author | 김유찬 | - |
dc.contributor.author | 석현광 | - |
dc.contributor.author | 한형섭 | - |
dc.contributor.author | 박지헌 | - |
dc.contributor.author | 서현선 | - |
dc.contributor.author | 이지욱 | - |
dc.contributor.author | 전진경 | - |
dc.contributor.author | 정가영 | - |
dc.contributor.author | 박종웅 | - |
dc.contributor.author | 전호정 | - |
dc.date.accessioned | 2024-01-12T02:39:01Z | - |
dc.date.available | 2024-01-12T02:39:01Z | - |
dc.date.issued | 2023-08-29 | - |
dc.identifier.uri | https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/76091 | - |
dc.title | 활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법 | - |
dc.type | Patent | - |
dc.date.registration | 2023-08-29 | - |
dc.date.application | 2020-06-03 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 11738123 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 16/891195 | - |
dc.publisher.country | US | - |
dc.type.iprs | 특허 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술연구원 | - |
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