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활성산소 종의 발생속도가 제어되는 임플란트 및 이를 이용한 활성산소 종의 발생 제어 방법

Author

옥명렬; 박지민; 김유찬; 석현광; 한형섭; 박지헌; 서현선; 이지욱; 전진경; 정가영; 박종웅; 전호정

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2023-08-29

Registration No.

11738123

Application Date

2020-06-03

Application No.

16/891195

Country

US

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/76091

Appears in Collections:

KIST Patent > Others

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