Full metadata record
DC Field | Value | Language |
---|---|---|
dc.contributor.author | 주병권 | - |
dc.contributor.author | 오명환 | - |
dc.contributor.author | 박흥우 | - |
dc.date.accessioned | 2024-01-12T05:36:25Z | - |
dc.date.available | 2024-01-12T05:36:25Z | - |
dc.date.issued | 1999-09-15 | - |
dc.identifier.uri | https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/78777 | - |
dc.title | 중간 삽입층을 이용한 직접 접합 공정과 이를 이용하는 전계방출 소자의진공실장공정 및 실리사이드 제조공정 | - |
dc.type | Patent | - |
dc.date.registration | 1999-09-15 | - |
dc.date.application | 1996-12-27 | - |
dc.identifier.patentRegistrationNumber | 234002 | - |
dc.identifier.patentApplicationNumber | 96-73596 | - |
dc.publisher.country | KO | - |
dc.type.iprs | 특허 | - |
dc.contributor.assignee | 한국과학기술연구원 | - |
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