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Issue Date | Title | Author(s) |
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- | Alicyclic polymers based on t-BOC protected norbornene derivatives for applications as ArF photoresists | KANG JONG HEE; 신중한; 이재형; Kim Jun Woo; KIM JONG MAN; Han Dong Keun; Ahn Kwang-Duk; 박재근; 문성윤; 문봉석 |
- | Alicyclic polymers based on t-BOC-dinorbonene as resists materials | 이재형; KANG JONG HEE; KIM JONG MAN; 이찬우; Han Dong Keun; Ahn Kwang-Duk; CHO I WHAN; 구재선; 오승훈; 이상균; 문성윤; 강신이 |
1999-11-01 | 포토레지스트용 공중합체 및 그 제조방법 | 안광덕; 한동근; 김종만; 구재선; 문성윤; 이상균; 이재형 |