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특정 파장의 광원 및 반응성 가스를 이용하여 대상물의 표면을 평탄화하는 방법 및 장치

Author

강구민; 한일기; 김춘근; 김영환; 고형덕; 권석준

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2023-11-28

Registration No.

ZL201910150264.8

Application Date

2019-02-28

Application No.

201910150264.8

Country

CC

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/76215

Appears in Collections:

KIST Patent > Others

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