KIST Library Institutional Repository

전도성 질화물을 사이층으로 사용한 높은 스핀주입 효율을 갖는 다층막 구조 및 그 제조방법

Author

이승철; 안효신; 이광렬

Assignee

한국과학기술연구원

Regitration Date

2008-08-06

Registration No.

0851891

Application Date

2006-12-15

Application No.

2006-0128886

Country

KO

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/81315

Appears in Collections:

KIST Patent > 2006

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