| 1993-01 | Chemical amplification resists for microlithography. | 안광덕; 정찬문 |
| 1996-01 | Correlation between BIS-GMA : TEGDMA ratio and degree of conversion in various layers of composite after additional heat curing | 박성호; 정찬문 |
| 1998-02-09 | N-(터셔리-부틸옥시카보닐옥시)말 레이미드 및 그 제조방법 | 안광덕; 구재선; 정찬문 |
| 1998-05-28 | N-(터셔리－부틸옥시카보닐옥시）말레이 미드를 이용한 공중합체 및 그 제조방법 | 안광덕; 강종희; 구재선; 정찬문 |
| 1998-03-03 | N-메탄술폰일옥시말레이미드，N-트리플로 로메탄술폰일 옥시말레이미드 및 그의 제조방법 | 안광덕; 정찬문; 구덕일; 조형숙; 구재선 |
| 1998-04-29 | N-치환된 술폰일옥시말레이미드 단량체를 이용한 삼원공중합체의 제조방법 및 그를 이용한 내열성 레지스트．． | 안광덕; 강종희; 구덕일; 정찬문 |
| 1999-02-23 | N-캠퍼술폰일 옥시말레이미드의 공중합체 및 그의 제조방법 | 정찬문; 안광덕 |
| 1998-11-21 | N-캠퍼술폰일 옥시말레이미드의 공중합체 및 그의 제조방법 | 정찬문; 안광덕 |
| 1998-10-02 | N-캠퍼술폰일 옥시말레이미드의 공중합체 및 그의 제조방법 | 정찬문; 안광덕 |
| 1994-01 | Terpolymers of tosyloxymaleimide for application as a polymeric photoacid generator in single-component resists. | 안광덕; 구덕일; 정찬문 |
| 1998-04-10 | 광경화성 프리폴리머,그의 제조방법 및 그를 함유하는 치과용 광경화성 조성물 | 정찬문; 김영하; 안광덕 |
| 1997-10-01 | 신규의 광개시제 화합물 및 이를 함유하는 감광성 중합체 조성물 | 안광덕; 정찬문; 강종희 |
| 1997-12-05 | 신규의 광개시제 화합물 및 이를 함유하는 감광성 중합체 조성물 | 안광덕; 정찬문; 강종희 |
| 1998-12-08 | 아민계 광중합 개시제 및 이를 함유하는 광경화성 조성물 | 안광덕; 정찬문; 김현기; 권오승; 김오영; 하정협 |
| 1998-07-02 | 치과용 비스페놀 술폰계 고분자화합물 | 김영하; 안광덕; 주동준; 김준경; 김수현; 정찬문 |
