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레이저 리소그라피 시스템을 이용한 새로운 negative 마스크 제작법 .

Authors

KPARK KYUNG HYUN; Byun Young Tae; Kim Sun Ho; CHOI SANG SAM

Citation

한국물리학회 논문초록집, v.10, no.2, pp.363

Keywords

레이저 리소그라피 시스템; negative 마스크 제작법; negative PR; image revesal 기술; lift-off 방법

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/112423

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