MOCVD 법으로 성장된 Bi2Te3 및 Sb2Te3 박막의 구조적 특성

Other Titles
Structural characteristics of Bi2Te3 and Sb2Te3 films on GaAs substrates grown by MOCVD
Authors
김정훈김진상정대용주병권최지원
Issue Date
2006-05
Publisher
한국물리학회
Citation
새물리, v.52, no.5, pp.463 - 467
Abstract
Bi$_2$Te$_3$ 및 Sb$_2$Te$_3$ 에피 박막을 trimethylbismuth, triethylantimony, 및 diisopropyltelluride을 사용하여 유기금속 기상 증착법으로 (001) GaAs 단결정 기판 위에 성장하였다. 성장된 Bi-Te 계 박막은 층상 구조를 이루며 $c$-축 방향으로 배향된 단결정임을 전자현미경 및 X-선 회절 분석결과 확인 할 수 있었다. 2차원의 step-flow 형태로 성장이 일어났음을 박막의 표면형상을 관찰한 결과 확인 할 수 있었다. Bi$_2$Te$_3$ 박막의 경우 Sb$_2$Te$_3$와는 달리 수평방향으로 성장 속도의 이방성이 존재함을 AFM 분석을 통하여 확인하였다. 이러한 열전소재의 제조 공정은 박막형 열전냉각 소자 및 발전소자의 제작에 널리 응용될 수 있을 것으로 기대된다.
Keywords
Bi$_2$Te$_3$; Sb$_2$Te$_3$; 열전재료; MOCVD; Bi$_2$Te$_3$; Sb$_2$Te$_3$; thermoelectric material; MOCVD
ISSN
0374-4914
URI
https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/135528
Appears in Collections:
KIST Article > 2006
Files in This Item:
There are no files associated with this item.
Export
RIS (EndNote)
XLS (Excel)
XML

qrcode

Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.

BROWSE