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반도체 차세대 미세가공기술과 포토레지스트 감광재료의 발전

Authors

안광덕

Issue Date

2000-01

Citation

화학세계, v.40, no.9, pp.52 - 59

Keywords

미세가공기술; 광미세가공기술; G-선; I-선

URI

https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/141646

Appears in Collections:

KIST Article > 2000

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