DSpace at KIST: 텅스텐의 저압화학증착 (LPCVD) 시 기체유량이 증착층의 선택성과 면저항에 미치는 영향 .

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	금동화	-
dc.contributor.author	류창섭	-
dc.contributor.author	이정중	-
dc.contributor.author	주승기	-
dc.date.accessioned	2024-01-22T01:05:53Z	-
dc.date.available	2024-01-22T01:05:53Z	-
dc.date.created	2022-01-10	-
dc.date.issued	1989-01	-
dc.identifier.uri	https://pubs.kist.re.kr/handle/201004/147482	-
dc.title	텅스텐의 저압화학증착 (LPCVD) 시 기체유량이 증착층의 선택성과 면저항에 미치는 영향 .	-
dc.type	Article	-
dc.description.journalClass	3	-
dc.identifier.bibliographicCitation	대한금속학회지, v.v. 27, no.no. 11, pp.995 - 1001	-
dc.citation.title	대한금속학회지	-
dc.citation.volume	v. 27	-
dc.citation.number	no. 11	-
dc.citation.startPage	995	-
dc.citation.endPage	1001	-

Show Simple Item Record

KIST Library Institutional Repository