| 1997-06 | Characteristics of cold hollow cathode ion-beam source for oxygen gas | 고석근; 조정; 최원국; S. C. Choi; Y. S. Yoon; 정형진 |
| 1999-03 | Comparison of crystalline structure with room temperature photoluminescence of ZnO thin films deposited by RF magnetron sputtering | 유영조; 김경국; 조정; 박성주; 정형진; 최원국 |
| - | Enhancement of photoluminescence and microstructure of undoped ZnO thin film growth on Al ₂ O ₃ (0001)substrate by rf magnetron sputtering | 조정; 윤기현; 오민석; CHOI WON-KOOK |
| - | Fabrication of 2-layer flexible copper clad laminate (FCCL) with high peel strength for chip on flex (COF) | Choi, Hyoung Wook; 심광보; Park Dong Hee; 조정; CHOI, WON-KOOK |
| - | Hydrophilic surface formation on materials and its application | CHO JUN SIK; 백영환; 한성; KIM KI HWAN; 조정; KOH SEOK KEUN |
| - | Metallization on polymers modified by ion-assisted reaction (IAR) | KOH, SEOK KEUN; CHO JUN SIK; 한성; KIM KI HWAN; 조정; 한영건; 백영환 |
| 2001-11 | RF 마그네트론 스퍼터링 법으로 사파이어 기판 위에 성장시킨 ZnO : Ga 박막의 RTA 처리에 따른 photoluminescence 특성변화 | 조정; 나종범; 오민석; 윤기현; 정형진; 최원국 |
| - | The behavior of surface adsorbed Pd activation layer on SnOx thin film with temperature in CH4 sensing | 조정; CHOI WON-KOOK; KOH SEOK KEUN; J. S. Cho; Y. S. Yoon; 정형진; K. D. Kim; J. S. Jeon; D. Choi |
| - | The control of stoichiometry and crystallinity of SnOx thin films applied for chemical sensor element | CHOI WON-KOOK; 조정; KOH SEOK KEUN; J. S. Cho; Y. S. Yoon; 정형진 |
| 1999-01 | The effect of initial Pd catalyst oxidation state on CH4 sensitivity of SnO2 thin film sensor | 최원국; 조정; 조준식; 송재훈; 정형진; 고석근 |
| 1998-08 | The sensitivity of ultra thin pd-doped SnO2 gas sensor fabricated by ion-assisted deposition for methane gas | 조정; 조준식; 윤기현; 김현주; 최원국; 정형진; 고석근 |
| - | ZnO-based photoconductive UV detector | 오민석; 조정; CHOI WON-KOOK |
| 2004-09-22 | 반도체 기판과 백금 전극간의 접착력 향상 방법 및 반도체용 백금 전극 구조 | 조정; 고석근 |
| 2002-07-08 | 수소 이온보조 반응법을 이용한 고분자 표면처리 방법 | 조정; 고석근 |
| 2008-02-27 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2008-02-27 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2008-02-27 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2002-03-11 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2007-11-28 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2005-11-16 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2001-11-20 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2008-02-27 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2005-01-11 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2008-02-27 | 이온빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치 | 고석근; 조정; 최원국; 정형진 |
| 2002-11-11 | 이온 보조 반응법을 이용한 폴리올레핀 또는 열가소성 수지의 표면 개질과 이를 이용한 나일론수지의 강인 | 고석근; 조정; 김형준; 서용석 |
| 2007-03 | 초고속 대면적 표면 처리 장치가 부착된 300 mm 폭 연성 동박적층 필림 제작용 진공 웹 코터 | 최원국; 최형욱; 박동희; 김지환; 손영진; 손범식; 조정; 김영섭 |
